Ионная имплантация полупроводников

Описание
Ионная имплантация, схожа с процессом нанесения покрытия, представляет собой высокотехнологичный подход для модификации поверхностных свойств материалов. Но данный процесс не влечет за собой добавление поверхностного слоя. Ионная имплантация была первоначально разработанна для полупроводниковой области применения, и в ней используются высокоэнергетические ионные лучи (положительно заряженные атомы) для изменения структуры поверхности и состава материалов при низкой температуре. Конечно, такой процесс не оказывает отрицательного влияния на размеры компонентов или на характеристиками основного материала.

Применение
1. Характеризуясь высокой теплопроводностью, прочностью материала, устойчивостью к коррозии и абсолютной чистотой, наши вольфрамовые и молибденовые сплавы хорошо выполняют свою роль, гарантируя, что ионы генерируются эффективно и свободны от примесей.
2. В оборудовании ионной имплантации вольфрамовые и молибденовые сплавы широко используются для дуговых камер, нитей, катодов и других запасных частей.

Принцип
Процесс ионной имплантации часто проводится в вакуумных камерах при очень низком давлении (10-4 до 10-5 торр). Большое количество ионов (обычно от 1016 до 1017 ион/см2) бомбардируют и проникают в поверхностный слой, взаимодействуя с атомами подложки сразу под поверхностью. Взаимодействие энергетических ионов с материалом изменяет поверхность, придавая ей различные свойства, отличающиеся от остальной части материала.

Основанное в 2008 году, ООО «Shanghai Landytop Industry Co.,Ltd» является профессиональным производителем и поставщиком вольфрамовой, молибденовой, танталовой и ниобиевой продукции в Китае. Пройдя сертификацию международной административной системы качества ISO9001-2008, наша продукция, такая как вольфрамовые сплавы и молибденовые сплавы, экспортируется в США, Южную Корею, Россию, Японию, Германию, Францию, Бразилию, Украину, Италию и на другие международные рынки.